センター員の研究開発課題がＮＥＤＯのイノベーション実用化助成事業として採択
2008年5月12日 (月)
当センターのハイテク・リサーチ・プロジェクトのメンバーの研究開発課題が、ＮＥＤＯの平成20年度イノベーション実用化助成事業（大学発事業創出実用化研究開発事業）として採択されました。今年度の総申請数は82件で、そのうち12件が採用されたそうです。
当該研究開発課題はナノプロセス・マイクロデバイス研究グループの神村共住准教授（工学部 電子情報通信工学科）が申請した「光学材料におけるレーザー損傷耐性の非破壊イメージング装置の開発」で、下記のような内容を、本年度から平成22年度までの3年間、総事業費5千万円で実施することを予定しています。
「開発概要」
高レーザー損傷耐性で均質な光学材料の供給が半導体露光装置等の性能、信頼性の向上に緊急で不可欠な課題となっています。本助成では、破壊させて計測している現状の光学材料のレーザー損傷耐性に関して、非線形吸収量からレーザー損傷耐性を高精度に予測可能な技術を応用することで、世界に先駆けて光学材料のレーザー損傷耐性を非破壊で三次元イメージング可能な評価装置の開発、及び実用化を目指します。この事業は学校法人常翔学園が助成事業者となり、本学神村共住准教授の高純度光学材料の非線形吸収を利用したレーザー損傷耐性の非破壊三次元イメージング技術を大学発シーズとして用い、平成26年の実用化を目指して研究開発を行います。
なお、本件はNEDOホームページからもプレスリリースされています。
https://app3.infoc.nedo.go.jp/informations/koubo/koubo/CA/jitsuyou/H20-1/nedokoubo.2008-03-26.3632831050/
