大学院2年生の熊谷健太朗君が国際会議（Photomask Japan 2014）において最優秀学界ポスター発表賞を受賞しました｜工学部トピックス

大学院2年生の熊谷健太朗君が国際会議（Photomask Japan 2014）において最優秀学界ポスター発表賞を受賞しました

: 去る2014年4月15日(火)～16日(水)にパシフィコ横浜アネックスホール（横浜市みなとみらい１丁目１番地）で開催された、(PMJ)/ SPIE主催、BACUS/ EMLC協賛の国際会議であるPhotomask Japan 2014にて、本学科に所属する大学院2年生の熊谷健太朗君が最優秀学界ポスター発表賞（Best Academia Poster Presentation）を受賞しました。

発表題目は「Electron beam current dependence on a surface potential distribution at a resist film on a conductive substrate」で、日本語訳は「導体基板上のレジスト薄膜における表面電位分布の電子ビーム電流依存性」です。

最先端ICを製造する際に重要となるフォトマスクの超微細加工技術の専門家が集まる会議で発表した内容が評価されました。学会名、発表題目、共著者の彫り込まれたクリスタルトロフィが副賞として贈られました。