令和５年電気学会 基礎・材料・共通部門大会で特別賞（論文賞）を受賞しました
2023年9月10日
- 2023年9月8日，本学のナノ材料マイクロデバイス研究センターの和田教授，電子情報システム工学科の小池教授，同教授が指導する豊田さん（2023年3月博士前期課程修了）と扶川さん（現在 博士前期課程2年在籍）らが執筆した論文が令和5年度 基礎・材料・共通部門特別賞(論文賞)を受賞しました．
受賞論文
「MOD 法によるNb, Ta添加VO2 薄膜における相転移温度の低温化」（電気学会論文誌A（基礎・材料・共通部門誌）Vol.142 No.5 pp.221-228, 2022）
受賞者
和田英男1，扶川泰斗1，小池一歩1，豊田和晃1，河原正美2
1) 大阪工業大学，2) (株)高純度化学研究所
著者らは，NbおよびTaを添加したVO2薄膜を金属有機化合物分解法 (MOD法) によりR面サファイア基板上に成膜し，サーモクロミック特性における相転移温度の低温化について検証しました．その結果，1～3mol% の添加量に対し，Nbでは62℃～38℃，Taでは58℃～48℃の相転移温度を示し，VO2薄膜を用いた赤外線スマートウィンドウとしては、最高レベルのサーモクロミック特性であったことがわかりました．
直近３年間の電気学会論文誌A（共通英文論文誌も含む）の中から，基礎・材料・共通部門に関する電気学術の進歩向上に貢献する優秀な論文であることが認められ，著者全員が表彰されました．
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