目的

半導体製造装置などに使われている、スケールピッチ・分解能ともに非常に小さい光学式リニアスケールの性能を比較する。

使用機材

レーザ干渉測長器
リニアスケール
精密位置決めテーブル
リニアモータ、ドライバ

現在までの経過および、今後の予定

２００５年〜２００７年まで、インクリメンタルのリニアスケールをM社製、S社製、H社製の３つについて比較を行った。
近年アブソリュートのスケールが多くなってきたので、その比較を行うことを考えている。