戦略的研究プロジェクト第3回研究会を実施しました
2012年11月18日
- 11月17日(土),戦略的研究プロジェクト第3回研究会(学内)を下記のように実施しました.
今回は,システムグループの吉村准教授から「MOSFETを用いた高速/低消費インターフェース回路技術 ~SOI基板上に形成されたMOSFETの回路設計~」というタイトルで報告が行われました.SOI-CMOSの基本から,高周波回路技術,発振回路の相互干渉の問題などについての議論は,実際に研究を進める大学院生だけでなく,SOI技術は,ZnO TFT回路の設計にも共通する技術課題を有しているため,ZnO TFTを研究する院生にとっても有意義なものでした.その後,予算執行状況の報告と報告書作成日程案の連絡が行われました.
1.日時 2012年11月17日(土)10:00~11:20
2.場所 工学部 電子情報通信工学科 大学院講義室
3.内容 1)研究報告
「MOSFETを用いた高速/低消費インターフェース回路技術
~SOI基板上に形成されたMOSFETの回路設計~」(吉村)
2)予算執行状況についてと報告書等作成日程案について(前元)
以 上
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