ハイテクリサーチセンター2006年度研究成果報告会（3/16開催）の実施報告
大阪工業大学ハイテクリサーチセンター２００６年度研究成果報告会を実施しました（3/16）．
ナノ材料マイクロデバイス研究センターのハイテクリサーチプロジェクト「人に優しい機能集積ナノ材料の創製とマイクロデバイス応用（Nanotechnology for the next generation）」は，２００７年３月１６日（金曜日）に，２００６年度の研究成果報告会を開催いたしました．年度末の多忙期にも拘らず，多くの方のご参加を得て無事終了することが出来ました．
学外招待者（外部諮問委員４名を含む）１５名，学内教職員１９名，大学院生・学部生３７名，計７１名
午後１時半スタートの講演・成果報告会では，井上正崇工学研究科長のご挨拶の後，白木靖寛 武蔵工業大学教授・総合研究所所長から「武蔵工業大学ハイテクリサーチセンター『シリコンナノ科学』−シリコンゲルマニウム（ＳｉＧｅ）の研究を中心に−」と題した１時間の基調講演を頂戴いたしました．内容は，武蔵工業大学のハイテクリサーチセンターとして本年度で４年目が経過した「シリコンナノ科学研究センター」の概要と，ＳｉＧｅ歪み構造を利用した高移動度電子走行デバイスならびにＳｉ中のＧｅナノドットのフォトニック結晶を利用した発光デバイスに関する先端的な研究成果です．私どもの先輩ハイテクリサーチセンターの一つのモデルケースとして，また，次世代シリコンエレクトロニクスを拓く半導体ナノ構造の研究成果について，興味深いご講演を戴きました．
引き続いて，本学のハイテクリサーチプロジェクトの本年度研究成果を，「ナノ構造複合材料研究グループ」の棚橋一郎教授，「ナノ半導体基盤材料研究グループ」の佐々誠彦教授，「ナノ・マイクロプロセス研究グループ」の小寺正敏教授が，各４５分をかけて報告いたしました．（写真左は満席の講演会場の様子，右は白木先生のご講演）
講演・報告会に引き続き午後５時から開催された外部諮問委員会では，ご出席いただいた４名の外部諮問委員の先生方から「順調にスタートしているが，如何なる成果を出すかじっくり考えて今後も研究に注力するように」とのコメントを頂戴いたしました．
その後の簡単な懇親会では，外部諮問委員の先生方をはじめ，学外からご参加の皆様と当プロジェクトのメンバーが親しく各種情報の交換をいたしました．
当プロジェクトには，来年度新たにＰＤ２名が参加いたします．４年後の研究目標達成に向けて鋭意努力を致す所存ですので，皆様には，引き続きご指導・ご鞭撻を賜りますよう心よりお願い申し上げます．
