ナノ材料マイクロデバイス研究センターは、材料・デバイス開発部門およびマテリアル分析部門の二部門から構成されています。主に本学工学部の機電系およびサイエンス系学科に所属する教員・学生が利用しており、機電系分野においては、特に半導体材料・デバイス開発に関する研究に注力し、これまでに多数の研究成果を挙げてきました。
このたび、3月15日から18日に東京科学大学で開催される第73回応用物理学会春季学術講演会において、計18件の研究発表を予定しています。応用物理学会は、物理学を電気・電子工学、材料工学、半導体工学、情報工学など多様な工学分野へ応用し、基礎科学および産業技術の発展を目指す公益社団法人であり、科学技術と社会の発展に大きく貢献している学会です。今回の春季学術講演会では、27のシンポジウムが企画され、一般セッションと合わせて3,000件を超える研究成果が発表される予定です。
今後もナノ材料マイクロデバイス研究センターは、教育・研究拠点としての役割を担い、半導体分野における人材育成を継続的に支援してまいります。
以下、１８件の発表 （アンダーラインはセンター利用教員）
[15a-S2_203-1] 新スピントロニクス入門—スピン流から最新の基礎・応用まで—
〇鈴木 義茂1 (1.情報通信研究機構研究員、産業技術総合研究所招聘研究員、大阪大学招聘教授、大阪工業大学客員教授)
[15p-WL1_201-6] 低速蒸着法によるDNTT薄膜成膜過程における分子動力学シミュレーションを用いた分子線源に関する考察
〇廣芝 伸哉1、小島 広孝2 (1.大阪工大、2.舞鶴高専)
[15a-PA3-13] ヨウ化鉛メチルアンモニウムのバーコート製膜における膜厚制御と太陽電池特性
堀江 真沙綺1、小山 政俊1、前元 利彦1、〇藤井 彰彦1 (1.大阪工大)
[16a-PA7-12] 微小空間昇華法による有機半導体微結晶作製と有機太陽電池応用
〇小倉 和真1、森 健吾2、小池 一歩2、廣芝 伸哉2、森本 勝大1、中 茂樹1 (1.富山大・院理工、2.大阪工大・ナノ材研センタ)
[16a-PA7-20] 遺伝子組み換えウレアーゼを用いた拡張ゲートFET型尿素センサー
〇(M1)山名 一生1、日後 太一1、本多 真也1、安藤 樹1、広藤 裕一1、廣芝 伸哉1、小池 一歩1 (1.大阪工大ナノ材研センタ)
[16a-WL2_101-1] Au蒸着におけるTa添加の悪影響とその解決策
〇稲垣 雄大1、伊藤 汰一1、山崎 貴暢1、小山 政俊2、野口 浩二1 (1.松田産業株式会社、2.大阪工業大学)
[16a-M_107-1] 超短光パルスペアで励起されたキャリアによる協同的コヒーレントプラズマ振動
〇長谷川 尊之1、小島 磨2 (1.大阪工大工、2.千葉工大工)
[17a-PB1-22] β相MoO3単結晶薄膜のMBE成長とNafion電解質を用いたプロトンゲートFETへの応用
〇上林 優斗1、山本 勢那1、鶴山 大翔1、広藤 裕一1、廣芝 伸哉1、小池 一歩1 (1.大阪工大ナノ材研センタ)
[17a-PA2-10] Fe濃度によるスピン-軌道相互作用の制御を目指したFeドープITOの低温磁気抵抗測定
〇(B)小林 弘樹1、藤元 章1、柏木 行康2、益山 新樹1 (1.大阪工大工、2.大阪技術研)
[17a-PA2-17] MOD法によるVO2薄膜成長における局在表面プラズモン共鳴挙動
〇(B)高見 康斗1、桑山 智大1、廣芝 伸哉1、小池 一歩1、和田 英男1、河原 正美2 (1.大阪工大ナノ材研センタ、2.高純度化学研)
[17a-PA3-1] 172 nmエキシマ光照射雰囲気がGaAs表面およびAu/GaAsショットキーバリアダイオードの整流特性に与える影響
〇門田 陽登1、上田 一輝1、野村 卓矢1、長谷川 尊之1、和田 英男1、小山 政俊1、藤井 彰彦1、清水 昭宏2、前元 利彦1 (1.大阪工大、2.ウシオ電機株式会社)
[17a-M_124-8] 低温バーコート法における流体制御による巨大ドメインペロブスカイト薄膜の作製
〇三宅 紹心1、藤井 彰彦2、仲嶋 一真1、尾﨑 雅則1、福田 憲二郎1 (1.阪大院工、2.阪工大)
[17a-W2_402-2] 塗布／乾燥プロセス分離によるD‐A型π共役高分子の配向メカニズムの検討Ⅱ
〇(M1)岩井 誠至1、宇戸 禎仁1、小山 政俊1、前元 利彦1、藤井 彰彦1 (1.大阪工大)
[17p-W2_402-3] 冷却バーコート法によるπ共役高分子配向薄膜の作製と分子配向の時間分解測定
〇安木 一希1、藤井 彰彦2、仲嶋 一真1、久保 等1、尾﨑 雅則1、福田 憲二郎1 (1.阪大院工、2.大阪工大)
[17p-W9_324-8] κ-Ga2O3 薄膜を用いた GaN HEMT における 2DEG 濃度変調の検討
〇(M1)西川 未咲1、土居 晃1、小山 政俊1、藤井 彰彦1、前元 利彦1、牧山 剛三2、中田 健2 (1.大阪工大 ナノ材研、2.住友電気工業株式会社)
[18a-PA3-3] 合成石英基板上にミストCVD成長した酸化ガリウム薄膜における結晶構造と光学特性の成長温度依存性
〇榎 駿介1、山崎 伊織1、西川 未咲1、小山 政俊1、小池 一歩1、藤井 彰彦1、前元 利彦1 (1.大阪工業大学)
[18a-PA3-6] CSD法およびミストCVD法で成膜したGaOx薄膜の物性と紫外線応答特性の評価
〇中野 有貴1、山崎 伊織1、堀部 彰人1、小山 政俊1、小池 一歩1、藤井 彰彦1、前元 利彦1 (1.大阪工大)
[18a-PA3-27] 真空紫外エキシマ光溶液プロセスにおける雰囲気制御が In2O3薄膜トランジスタの伝達特性に及ぼす影響
〇上田 一輝1、落合 秀哉1、野村 卓矢1、藤元 章1、和田 英男1、小山 政俊1、藤井 彰彦1、清水 昭宏2、前元 利彦1 (1.大阪工大、2.ウシオ電機株式会社)