ニュース 半導体分野で研究を行っているセンター利用の大学院生6名がMRM国際会議で発表しました

2025年12月8日～13日にパシフィコ横浜でMaterials Research Meeting 2025（MRM2025）が開催され、本センターで半導体材料・デバイス開発に取り組む大学院生6名が研究成果を発表しました。

MRMは、ハイレベルかつグローバルな議論の場として設立された学際的国際会議であり、2019年より隔年で開催されています。材料科学および関連分野の研究者が一堂に会し、革新的材料・プロセスの実用化に向けたアイデアを共有し、次世代材料研究の戦略的発展を議論する貴重な機会を提供するものです。

今回発表した大学院生たちは、日頃の研究成果を国内外の研究者に向けて発表し、多様なバックグラウンドを持つ研究者との交流を通して多くの知見を得ることができました。本センターは今後も、半導体分野を担う人材の育成に一層力を入れてまいります。

 

[G3-P203-01] 発表者：修士２年 堀部さん

Fabrication of (Ga_1-xIn_x)₂O₃ alloy films on a c-plane sapphire substrate by chemical solution deposition and their application to solar-blind ultra-violet photodetectors

Akito Horibe, Hiroto Tsuruyama, Iori Yamasaki, Shunsuke Enoki, Nobuya Hiroshiba, Masatoshi Koyama, Kazuto Koike

 

[G3-P203-06] 発表者：修士１年 上田さん

Characterization of Indium Oxide TFTs Fabricated by Aqueous Solution Processing and Excimer Light Irradiation

Kauki Ueda, Toshihiko Maemoto, Ryosuke Kasahara, Hideya Ochiai, Akira Fujimoto, Hideo Wada, Masatoshi Koyama, Akihiko Fujii, Akihiro Shimizu, Noritaka Takezoe, Hiroyasu Ito

 

[G3-P203-13] 発表者：修士１年 門田さん

Characterization of MIM Diodes Fabricated Using ZnO for Rectenna Applications

Haruto Monda, Kensuke Nakata, Naoki Takada, Hideo Wada, Masatoshi Koyama, Akihiko Fujii, Toshihiko Maemoto

 

[G3-P203-14] 発表者：修士１年 高田さん

Low-Temperature Processed AlO_x/ZnO Multilayer Oxide TFTs for OLED Pixel Driving Applications

Naoki Takada, Kensuke Nakata, Kaiko Yuge, Akira Fujimoto, Hideo Wada, Masatoshi Koyama, Akihiko Fujii, Toshihiko Maemoto

 

[G5-P203-06] 発表者：修士２年 鶴山さん

Molecular beam epitaxial growth of β-phase MoO₃ single-crystalline thin films and the effects of electrochemical proton intercalation

Hiroto Tsuruyama, Yuto Kanbayashi, Sena Yamamoto, Yuichi Hirofuji, Nobuya Hiroshiba, Kazuto Koike

 

[G5-P203-07] 発表者：修士２年 桑山さん

Characterization of Ta doped VO₂ thin films deposited on flexible ultrathin glass via MOD

*Chihiro Kuwayama, Yasuto Takami, Atsuro Shimonaka, Ryosuke Mitoguchi, Nobuya Hiroshiba, Kazuto Koike, Masami Kawahara, Hideo Wada